國際
日邀英特爾合建EUV光刻機中心 助本土研發
【明報專訊】《日經亞洲》周二（3日）報道，日本政府將與晶片巨擘英特爾合作，在日本國內興建一座極紫外（EUV）光刻機研發中心，建成後將容許不同企業使用，是日本首家同類EUV光刻機中心，有望推動日本國內高端科技開發。
可產5納米或以下製程晶片
EUV是目前最高級的生產晶片光刻機級別，可以用作生產5納米或以下製程的先進晶片。報道稱，日本經濟產業省旗下的產業技術綜合研究所（AIST）與美國晶片生產商英特爾（Intel）合作，在3至5年來於日本興建一所擁有EUV光刻機的設施，設備生產商和材料企業可以繳納一定費用後使用設施作生產原型產品和進行測試，是日本首家容許不同產業分享使用EUV機的中心。
報道指出，日本至今未有研究機構部署相關設備，而晶片生產商Rapidus亦計劃到今年12月才引入EUV光刻機作大量生產高端晶片。由於一部EUV機成本超過400億日圓（約21.5億港元），對很多材料與設備供應商而言難以負擔，因此很多企業都轉而利用海外研究機構（如比利時的Imec）的EUV儀器來研發產品。
